HMDS涂胶机，智能型HMDS涂 胶机将HMDS涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

光刻工艺HMDS镀膜机，MOS器件HMDS镀膜 机涂布工艺是改善晶圆表面接触角的关键步骤。

抗粘剂蒸镀机，抗粘层镀膜机在基片与弹性支撑层之间还形成有抗黏层，抗黏层一般由全氟辛基三氯硅烷或全氟癸基三氯硅烷形成。

HMDS真空烤箱，MES系统HMDS烤箱将HMDS涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

HMDS涂胶烤箱，MES接口hmds涂布机的主要作用是对晶圆做表面处理，以增加光阻在晶圆表面的附着力。当晶圆送到黄光区时，表面可能有含水层，高温烘烤后去除水气，同时经过HMDS制程改变晶圆表面从极性到非极性，将晶圆表面的表面能被调整到与光阻表面相当的程度，从而使光阻可以很好的附着在晶圆表面。

HMDS涂布机，HMDS涂胶烤箱用于光刻工艺中基板疏水化处理， HMDS 涂布的原理，较常用的黏附剂是六甲基二硅胺烷（HMDS）。在提升光刻胶的黏附性工艺中，实际上六甲基二硅烷并不是作为粘结剂所产生作用的，而是HMDS 改变了 SiO2 的界面结构，从而使晶圆的性质由亲水性表面转变为疏水性表面。

HMDS镀膜机设备。整个系统采用优质医用级316L不锈钢材料制作，无发尘材料，适用百级光刻间净化环境。