精密烤胶台，高精度烘胶机适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。热板温度稳定度高，重复性好。可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。

掩膜版烘烤机，光罩版恒温热板适用于半导体光刻工艺的前烘和坚膜、电路模块的涂敷烧结和考核等工艺。

均匀性0.5度的恒温加热台，可编程恒温热板用于固化光刻胶，固化环氧塑脂，可用于显微镜下使用以及其它需要高精度控温的场合等。适用于半导体光刻工艺的前烘和坚膜、电路模块的涂敷烧结和考核等工艺。

小型烘胶台定制，恒温烤胶台说明对一些温度敏感材料（如晶体、半导体、陶瓷等）进行加热和装卡尤为适用。设备结构简单，操作简便，安全可靠，是从事半导体热处理、材料研究生产、温度干燥试验等。

可程式恒温加热台，可替代进口的精密热板用于半导体光刻工艺的烘和坚膜、电路模块的涂敷烧结和考核等工艺。适用于材料学、IC芯片、半导体、医疗、冶金学、生物化学、有机化学、高分子及纳米材料科学而研制。

智能型烤胶机，自动烤胶台适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。热板温度稳定度高，重复性好。可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。

高精度加热台，精密热板用于固化光刻胶，固化环氧塑脂，可用于显微镜下使用以及其它需要高精度控温的场合等。适用于半导体光刻工艺的前烘和坚膜、电路模块的涂敷烧结和考核等工艺。