HMDS镀膜机，黄光区镀膜设备通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。
硅片HMDS涂布机台，4寸Wafer hmds烤箱是将 HMDS 涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水， 其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。
HMDS镀膜烤箱，HMDS真空镀膜系统预处理性能更好，更加均匀；效率高,一次可以处理多达4盒的晶片；更加节省药液；低液报警、防药液泄漏等具有很强的安全保护功能；，有可自动吸取添加HMDS功能，智能型的程式设定，一键完成作业。
智能型HMDS烤箱定做，不锈钢HMDS烘箱预处理性能更好，更加均匀；效率高,一次可以处理多达4盒的晶片；更加节省药液；低液报警、防药液泄漏等具有很强的安全保护功能；，有可自动吸取添加HMDS功能，智能型的程式设定，一键完成作业。
将HMDS涂到样品表面后，经烘箱加温可生成硅氧烷为主的化合物，将样品表面由亲水性变为疏水性，此疏水性能HMDS烘箱，hmds预处理烘箱够很好的与光刻胶结合，增加了样品表面与光刻胶的粘附作用。
HMDS真空烘箱处理系统：性能更好，由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理，所以不会有尘埃的干扰，再者，由于该系统是将“去水烘烤“和HMDS处理放在同一道工艺，同一个容器中进行，晶片在容器里先经过100℃-160℃的去水烘烤，再接着进行HMDS处理，不需要从容器里传出，而接触到大气，晶片吸收水分子的机会大大降低，所以有着更好的处理效果。
HMDS真空烘箱预处理性能更好，由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理，所以不会有尘埃的干扰，再者，由于该系统是将“去水烘烤“和HMDS处理放在同一道工艺，同一个容器中进行，晶片在容器里先经过100℃-160℃的去水烘烤，再接着进行HMDS处理，不需要从容器里传出，而接触到大气，晶片吸收水分子的机会大大降低，所以有着更好的处理效果。
